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镀膜技术
原子层沉积技术
nHALO® 镀膜技术
nAERO® 镀膜技术
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经原子层沉积镀膜处理后的产品 |
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原子层沉积技术 |
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原子层沉积技术 nHALO® 镀膜技术 nAERO® 镀膜技术 |
原子层沉积技术具有许多独特的技术特性，这些特性使其在多种工业应用中成为具有广泛吸引力的薄膜制备技术。原子层沉积主要应用于半导体和显示器行业，由于其具有在复杂形状物体上制备无针孔和高保形薄膜的能力，也使其在多种其它行业的应用得到高度的认可。原子层沉积可制备的薄膜材料包括多种不同的氧化物，氮化物以及这些材料的混合物和多层结构。先进的高产能
ALD 设备具有每批几千个英寸尺度物件镀膜和每年数百万件金属，玻璃和塑料产品镀膜的能力。
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