WCS 500

卷对卷的ALD 设备-卷式涂层系统 WCS 500

这是ALD历史上的第一次，卷对卷式ALD对研发和工业生产变得切实可行和容易实现。WCS500提供了真正的卷对卷ALD柔性衬底镀膜，宽度上达到了500mm。

Beneq公司的WCS500是作为研发平台设计的，意味着可以用于不同客户的不同研发要求。例如，WCS500可以处理很多不同类型和厚度的衬底材料，镀膜能力是400,000 米2/年。WCS500很容易从研发转为不同工业应用的小批量试产，如柔性有机电子的水汽阻挡层和CIGS太阳能电池的缓冲层。

性能亮点

• 真正的卷对卷ALD工艺
• 最大卷宽度500mm
• 非接触式卷处理
• 镀膜能力400,000 米2/年(对特殊应用而言)
   

系统主要元件

• 有卷轴的真空腔，工艺鼓，ALD镀膜头
• Beneq化学源输送系统(PDS)
• 电气控制柜
• 化学源钝化系统
• 真空泵
   

技术说明

工艺温度范围	达到150 °C
衬底尺寸 (卷宽度)	达到 500 mm
衬底材料	高分子膜或其他柔性材料
卷速度	达到 2 米/分钟
产量 (对于生长25 nm厚的膜)	400,000 米2/年
控制系统	有PLC 控制的计算机用户界面
主要尺寸, ALD 系统 (L × W × H)	2060 × 2340 ×2150 (mm)
主要尺寸, 化学源输送系统 (L × W × H)	1750 × 800 × 1530 (mm)
主要尺寸, 电气柜 (L × W × H)	1010 × 320 × 1220 (mm)

 

更多信息

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