P400A and P800

用于工业化生产线的P400A和P800薄膜系统

倍耐克公司的P400A和P800是为工业化大规模生产而设计的。这两种设备十分适合从研发阶段的薄膜沉积扩大到大规模的工业化生产。它们的设计理念是建立在25年(24小时/每周7天)苛刻的工业条件下连续生产的经验基础之上的。

我们的工业客户大多要求专用的工艺和生产设置。倍耐克公司自有的P400A和P800系统可以满足客户从应用研发到薄膜科研的广泛需要。这样客户可以在决定购买前评估设备和工艺的技术和盈利表现。另外，在客户自己的生产设备就位之前，我们还可以提供小批量的生产服务。

扩展到大批量和厚膜堆叠生产

出乎许多人的意料，许多原子层沉积工艺采用厚膜堆叠(> 1 μm).厚膜批量生产需要更加优化的前驱体料源处理和更加先进的废物处理工艺。P400A和P800装有多相过滤系统，可以处理大量的前驱体。在生产过程中，前驱体去活性功能可以保证没有化学物能够通过真空泵而影响薄膜的生长。真空过滤器具有大容量和高气传导性的特点。设备的较大的废物处理容量使清理间隔明显变长: 在科研模式下清理间隔在1年左右；大批量生产则为3到6个月。对于工艺和镀膜生产设计，用户友好的工艺程序编辑器可用于纳米叠层，混合薄膜和设计复杂的镀膜结构，能够在同一批次中处理数百个不同的的膜层。操作人员可以单独给阀门，加热装置和子程序命名。工艺编辑十分简单而且可以用普通的文本编辑器在电脑上进行。

 性能特点

• 在科研阶段后可以马上扩大到大批量生产
• 加长大量的数据记录适于重复性的生产控制
• UPS功能可以在断电时使生产持续进行
• 较低的维护需要。
• 独特的微型环境设计使装载，批量大小，基底尺寸和污染的控制更加灵活
• 微型环境和专用过滤的设计将清洁工作和P400A系统分离，因此不会因为清洁而造成停机。
• 经济有效的热壁设计和大容量的批量生产系统
• 独特的热稳定源料模块内置专利的快速定量阀和气流通道。
• 抽真空系统配备有多相和专用大容量的前驱体去活性和过滤系统，这种设计使大批量生产成为可能。
• 过热保护由专用的配有热电偶的PLC控制，独立于正常的加热回路，更加安全。
• 建立在 30 年发展基础上的技术具有高重复性和高可靠性的特点，同时经过工业生产的验证。
   

技术规格

	P400A	P800
工艺温度范围	25 - 550 °C	25 - 550 °C
真空腔尺寸	ø400 × 1000 (mm)	ø800 × 1600 (mm)
反应腔类型和尺  寸	根据客户的需要和基体材料的尺寸，如: - 腔体的内部尺寸250 × 250 × 1000   (mm) - 平面基体材料的最大腔体尺寸370 ×   470 (mm)	根据客户的需要和基体材料的尺寸(不  能 超过真空腔的尺寸)
前驱体料源	5 路平行的气态，液态和固态前 驱体管路。也可加装超过10路前驱体管路	5 路平行的气态，液态和固态前驱体管路。也可加装超过10路前驱体管路。
控制系统	PLC 控制器和PC用户界面	PLC 控制器和PC用户界面
主要尺寸 (长 x 宽 x 高)	2400 × 930 × 2420 (mm)	3200 × 1340 × 2460 (mm)

 

更多信息

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