nCLEAR®阻隔层镀膜

倍耐克公司用于柔性和有机电子的ALD阻隔层镀膜

对于柔性和有机电子行业，水汽和氧气的扩散阻隔层是一个面临的主要问题。其中有机发光二极管(OLED)和有机光伏(OPV)是两个主要的应用领域。传统的薄膜沉积技术不能制备具有足够低的水汽透过率(WVTR)的阻隔层。而倍耐克公司以ALD技术为基础的nCLEAR^®阻隔层镀膜则为这个行业提供了高质量和有效的解决方案。
 

nCLEAR阻挡层技术

倍耐克公司的nCLEAR无机阻挡层是用原子层沉积（ALD）技术制备的。这种技术形成的薄膜非常致密而且针孔密度极低，从而具备了独特的阻挡特性。倍耐克公司在ALD领域有超过二十年的生产经验，可以为客户提供基于专用纳米涂层的高质量的nCLEAR阻挡层。最终的解决方案是倍耐克公司的自动化批量镀膜设备构成的交钥匙工程，如TFS 600.

阻挡层特点

nCLEAR技术提供了世界领先的WVTR效果：10^-4 g/m²/24 小时 在 80 °C 和 80% 相对湿度下, 相当于10^-6 g/m²/24 小时 在大气环境中。这是通过倍耐克公司研发的纳米涂层实现的(专利申请中)

nCLEAR的主要优点

• 世界领先的阻挡效果
• 适合于平面和复杂三维物体的均匀无针孔的镀膜
• 低反应温度，最低到60°C
• 涂层和基底材料之间极佳的粘附性
• 自动化和可靠的镀膜工艺

倍耐克公司TFS 600 ALD薄膜系统

倍耐克公司的TFS 600是针对特定应用的ALD系统。它被设计用来整合在真空生产线中进行OLED封装。TFS 600可以实现在线ALD生产而不需要改变各个生产过程中的真空度。TFS 600可以提供：

• 极佳的镀膜质量和较短的循环时间
• OLED封装，同时可以根据特定的应用设计反应腔从而优化涂层的性能
• 全自动化的装载操作
• 可在洁净室环境使用

更多关于TFS 600的信息也可以在TFS 600设备页面找到

更多信息

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