晶体硅的表面钝化

倍耐克公司用于晶体硅太阳能电池的ALD工业化表面钝化

光伏产业今天面临的一个主要问题就是如何在增加转换效率的同时又不降低工业化生产的经济性和技术可行性。通过原子层沉积(ALD)对晶体硅太阳能电池硅片进行表面钝化已经被证明是一种有效的提高转换效率的方法。硅片表面的钝化可以增加载流子的有效寿命从而提高了整体的转换效率。ALD表面钝化技术可用于n型硅片的正面和背面。
 

倍耐克公司的ALD技术为表面钝化提供了有效的解决方案。TFS NX300薄膜系统是为PV工业而研发的。它被专门设计用来进行晶体硅太阳能电池硅片表面钝化(Al₂O₃)的工业化生产。能够受益于ALD技术为基础的Al₂O₃表面钝化的晶体硅电池类型包括p型或n型基极(背面)和硼掺杂p+发射极(正面)。

主要优点

• 转化效率增加1%-2%
• 负电荷高度固定基础上的表面钝化
• 不吸收光谱中的可见光部分,从而提高了背面电极对红外光的反射率(100 纳米的 Al₂O₃)。
• 低温工艺(150 - 250 °C)
• 极佳的镀膜均匀性
• 高产能的TFS NX300，最高产能达到3900片/小时

对于某些客户需要在工业化生产前尽快的应用ALD技术和Al₂O₃表面钝化，倍耐克公司提供合同镀膜服务。

倍耐克公司TFS NX300 ALD薄膜系统

TFS NX300薄膜系统被专门设计用来进行晶体硅太阳能电池硅片表面钝化工业化生产的全自动在线设备。设备的主要特点是：

• 工业化全自动生产设备
• 自动化的盒到盒处理系统
• 产能达到3900 wafers/小时
• 可根据客户要求进行定制化的配置

更多关于TFS NX300的信息也可以在TFS NX300设备页面找到

更多信息

下载晶体硅太阳能电池表面钝化资料(pdf).