颗粒镀膜

用于颗粒镀膜的Particle ALD™

原子层沉积(ALD)正在从用于多孔的基底和颗粒镀膜的科研应用向针对许多特定产品的工业化生产过渡。其中包括非均相催化剂，用于聚合物复合材料的nanofillers和电子材料的热填充物。例如在锂离子电池研究中ALD已经得到许多应用。倍耐克公司的ALD设备和技术处于这项研究的前沿，我们很高兴能够在这一不断发展的高科技领域为客户服务。
 

将ALD应用到特种领域

ALD技术将高保形的镀膜与颗粒和多孔的基底材料相结合，从而为改变材料的扩散性质创造了全新的机会。ALD已经是针对颗粒镀膜的推动技术，并且在以下的多种应用中得到了验证：

• 将微米或纳米级别的颗粒固定到基底表面
• 为金属表面涂敷扩散阻隔层和防腐层
• 控制颗粒表面的扩散特性
• 表面钝化
• 调整多孔材料的结构
• 对多孔材料进行掺杂

由于其自下而上的薄膜成长机理，绝大多数ALD镀膜是无针孔的。这种特性特别适合于阻隔层和钝化应用。当薄膜厚度刚刚达到10nm时，阻隔效果就已经得到了很大的改善。

倍耐克公司和Particle ALD™- 业界领先

为了给客户提供更有效的ALD颗粒镀膜解决方案，倍耐克公司与该领域的先驱和Particle ALD™的开发者ALD NanoSolutions, Inc.达成了战略伙伴关系。两家公司共同开发用于ALD颗粒和粉末镀膜的科研和工业化生产设备。ALD NanoSolutions在开发用于特定领域的ALD工艺方面有着丰富的经验，并在该领域拥有许多重要的专利组合。倍耐克公司则可以运用自身的专业知识将工艺和应用转变成为全尺寸的生产设备。

更多信息

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合作方：

 

 

 

 

Particle ALD是ALD NanoSolutions, Inc的注册商标