光学镀膜

nOPTO™ -用于光学和光电子产业的倍耐克公司ALD镀膜

选用ALD技术用于光学和光电子应用的原因主要有以下几个。首先，ALD可以为复杂形状的物体镀膜而其他镀膜方法根本无法实现。其次，ALD可以让您自如的使用各种最新的材料。第三，根据材料的不同，ALD形成的薄膜厚度的精确率可以到到0.2到12 Å。最后，ALD薄膜是完全保形和无针孔的。这使得它特别适合于阻挡层和钝化层。倍耐克公司的nOPTO™工艺为光学和光电子工业提供了ALD镀膜的解决方案。
 

定制的工程材料

能够采用各种最新的材料是ALD最吸引人的特点之一。ALD特别适合于制造需要将原子结构和薄膜结合在一起的物质。用ALD进行掺杂工艺非常简单。有许多材料可以用于掺杂剂，包括稀土元素。

TiO₂的改性就是ALD材料多样性的一个很好的例子。这种薄膜本质上在光学方面是非晶态的，物理状态是结晶的，而且是一种高折射率和低损失的光学薄膜。TiO₂具有较高的折射率，但在150 °C的温度以上时会变成晶体，导致散射和光学损失。晶体的散射问题可以通过将晶体的尺寸控制在较小的范围内而得到改善。这可以通过在晶体层之间沉积一层非晶态的ALD薄膜来实现。这样折射率依然会很高如果使用的非晶态薄膜厚度小于1 nm。

发光层

ALD一个众所周知的应用是薄膜电致发光显示器(TFEL)。在这种显示器中，光是通过掺杂Mn的ZnS荧光层而产生的。而绝缘材料则是用ALD技术制备的Al2O₃ 和 TiO₂。

装饰涂层

鲜艳的彩色薄膜可以为商品和设备增加生命力和吸引力，尤其是对外观的美学价值有着较高要求的物品。绝缘的，非传导的，金属外观的玻璃物质可以沉积到塑料材料表面。

阻隔层

由于其高保形和无针孔的特性，ALD可以提供最好的阻隔层。其中最具说服力的例子是倍耐克针对银饰的nSILVER®防暗化工艺。这是一种致密的完全透明和保形的阻隔层。

ALD是一种成熟的技术。从全球市场来看，ALD主要用于半导体行业的薄膜应用。光学和其他行业通常需要沉积微米级别的薄膜。ALD技术对沉积这种较厚的薄膜也完全没有问题。然而，对于需要连续加工较厚的薄膜的应用，则需要专门设计工业化的ALD镀膜系统。倍耐克公司的ALD系统经过了工业化生产的考验，证明是可靠的而且适合于微米厚度薄膜的连续加工生产。

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