原子层沉积设备

在倍耐克公司，我们用开放的心态和创新的精神来进行原子层沉积系统的设计。目的是为了通过全新的发明创造开发出新的应用和商业机会。时至今日，倍耐克公司已成为ALD领域领先的专业厂商。从2005年至今，我们已经研发出各种用于科研，大批量生产和连续型工业化制造的设备。倍耐克公司高质量的设备将会使您的投资获得丰厚的回报。
 

不是所有的ALD设备都能做同样的事情

倍耐克公司的ALD设备拥有卓越的技术性能而且经过了实践的检验。我们的设备可以以较低的循环次数达到极高的镀膜质量。作为ALD镀膜技术的佼佼者，倍耐克是您的必然选择。

倍耐克公司为您提供多种平台的ALD设备，从纯粹的科研工具到工业化生产的主力机型。所有的设备都是由专业人员设计和制造并服务于专业的客户。其中有些设备是针对特定应用，因此更专注于特定的工艺和特性，这样的设备如TFS 1200 和 TFS NX300。这些针对特定应用的设备是与客户进行深度合作的结果，目的就是为了设计制造出满足客户需要的可靠的生产设备和解决方案。以下是我们的ALD设备列表：

• TFS 200,用于 ALD科研，包括颗粒性ALD
• TFS 200R，用于连续型ALD科研
• TFS 500,  用于ALD科研和批量生产
   
• TFS 600, 用于工业化OLED封装
• TFS 1200，用于工业化在线CIGS太阳能电池缓冲层制备
• TFS NX300, 工业化全自动晶体硅太阳能电池表面钝化
• P400A和P800，工业化ALD批量生产

• WCS 500, 将卷对卷式ALD从科研升级到工业化生产

 

颗粒型ALD是of ALD NanoSolutions, Inc.的注册商标
 

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